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        尼康的牛逼之处，就是人家是产业链集合，所有的零件都能自己搞定。

        但是，在进入九十年代，光刻机的生产商碰到了一个技术关卡：光刻机使用的光源是193纳米的，它就限制了光刻机的继续升级！

        想要凋刻东西越精细，刀子就得越锋利，193纳米的激光已经不够细了，接下来该怎么办呢？

        尼康作...p;尼康作为科技巨头，想的办法也很简单，直接换用157纳米的F2激光，这样就能解决问题了。

        而为了对抗尼康成立的联盟则押注更激进的极紫外技术，将光源切换成十几纳米的极紫外光，这样不仅仅能解决现有的问题，还能一直用到以后，刻十纳米以下的芯片制程都没问题。

        但是，这两种技术都不容易，都面临着技术难关，这就是九十年代最出名的193纳米关卡！

        凡是遇到难关的时候，总是有天才出现的，现在也不例外，一个名叫林本坚的鬼才工程师出现了。

        当光线透过水之后，频率不变，但是波长会发生变化，这就是水的折射率，所以，只要在光刻机的光源和硅片之间加一层水，让原本的193纳米的激光发生一次折射，不就能大大地降低了吗？

        简单计算就能知道，波长会降低到132纳米！

        这样，不仅仅能降低了光刻机的波长，刻蚀更加精密的电路，而且，对机器的改动还最小！

        以前的就叫做干刻法，现在可以叫做湿刻法了！

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